| ■ 영문 제목 : Global Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Systems Market 2025 | |
 | ■ 상품코드 : MR-GIFR19201 ■ 발행일 : 2025년9월 ■ 보고서 형태 : 영문 PDF ■ 납품 방식 : E메일 (2~3 영업일) ■ 조사대상 지역 : 글로벌, 주요 국가 ■ 산업 분야 : 산업기계/건설 |
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| 극자외선 리소그래피(EUVL) 시스템은 반도체 제조 공정에서 사용되는 첨단 기술로, 13.5nm 파장의 극자외선 빛을 이용하여 미세한 회로 패턴을 웨이퍼에 전사하는 방법입니다. EUVL은 나노미터 단위의 정밀성을 요구하는 현대 반도체 산업에서 필수적인 기술로 자리 잡고 있습니다. 이 기술의 주요 특성 중 하나는 높은 해상도와 높은 생산성을 제공한다는 점입니다. 기존의 광학 리소그래피 기술보다 훨씬 더 짧은 파장을 사용하여 더 작은 패턴을 형성할 수 있어, 반도체 소자의 집적도를 극대화하는 데 기여합니다. EUVL 시스템은 일반적으로 빔 생성, 집속, 패턴 형성 및 이미징의 여러 구성 요소로 나뉘어집니다. 극자외선 광원은 고온의 플라즈마에서 생성되며, 이를 통해 발생한 빛은 여러 개의 거울을 통해 집속됩니다. 이러한 구성 요소들은 정밀한 조정이 필요하며, 고도의 기술적 도전이 동반됩니다. EUVL은 두 가지 주요 타입으로 구분될 수 있는데, 하나는 단일 패턴화 방식이고 다른 하나는 다중 패턴화 방식을 포함합니다. 단일 패턴화 방식은 더 간단한 구조의 회로를 생성하는 데 사용되며, 다중 패턴화 방식은 복잡한 회로를 제작하기 위해 더 많은 단계를 요구합니다. EUVL의 주 용도는 고급 반도체 칩 제조에 있습니다. 특히, 모바일 기기, 전자기기, 컴퓨터 및 인공지능 칩 등 다양한 분야에서 사용되는 고성능 반도체 소자를 제작하는 데 필수적입니다. EUVL의 도입으로 인해 반도체 산업은 더욱 높은 집적도와 성능을 갖춘 제품을 시장에 공급할 수 있게 되었으며, 이는 전체 산업의 발전에도 큰 영향을 미치고 있습니다. 앞으로 EUVL 기술은 더욱 발전할 것으로 예상되며, 차세대 반도체 기술을 구현하는 데 중요한 역할을 할 것입니다. 본 조사 보고서는 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 (Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Systems Market) 현황 및 미래 전망을 분석 정리했습니다. 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 시장동향, 종류별(type) 시장규모 (레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출), 용도별(application) 시장규모 (메모리, 파운드리, 기타), 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 및 예측, 관련 기업정보 등을 기재하고 있습니다. 기업은 ASML, Canon Inc., Intel Corporation, Nikon Corporation, NuFlare Technology Inc., Samsung Corporation, SUSS Microtec AG, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (TSMC), Ultratech Inc., Vistec Semiconductor Systems 등이 포함되어 있습니다. 주요지역은 북미, 미국, 캐나다, 멕시코, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 러시아, 아시아, 동남아시아, 중국, 한국, 일본, 인도, 브라질, 아르헨티나, 중동, 아프리카 등이 포함되어 있습니다. · 세계 시장 개요, 종류 구분, 용도 구분, 세계 시장규모 |
| ※본 조사보고서 [세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 : 레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출, 메모리, 파운드리, 기타] (코드 : MR-GIFR19201) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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| ※당사에서는 미국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 보고서와 중국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 보고서도 취급하고 있습니다. 한국 시장 보고서는 판매 종료했습니다. 각 보고서는 영문으로 작성되어 있으며, PDF 형식으로 납품 드립니다. 관심이 있으신 분은 E메일 또는 문의 폼 기입을 통해서 연락주세요. 한국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 (Korea Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Systems Market) - 보고서 코드 : MR-GIFR19201-KR · 한국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 개요 · 한국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 동향 · 한국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 예측 2021년-2030년 · 주요 기업 정보 (기업 개요, 판매량, 매출 등) · 주요 기업별 한국시장 점유율 · 종류별 시장규모 (레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출) · 용도별 시장규모 (메모리, 파운드리, 기타) · 한국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 서플라이 체인/유통 채널 분석 미국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 (United States Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Systems Market) - 보고서 코드 : MR-GIFR19201-US · 미국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 개요 · 미국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 동향 · 미국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 예측 2021년-2030년 · 주요 기업 정보 (기업 개요, 판매량, 매출 등) · 주요 기업별 미국시장 점유율 · 종류별 시장규모 (레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출) · 용도별 시장규모 (메모리, 파운드리, 기타) · 미국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 서플라이 체인/유통 채널 분석 중국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 (China Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Systems Market) - 보고서 코드 : MR-GIFR19201-CN · 중국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 개요 · 중국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 동향 · 중국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 예측 2021년-2030년 · 주요 기업 정보 (기업 개요, 판매량, 매출 등) · 주요 기업별 중국시장 점유율 · 종류별 시장규모 (레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출) · 용도별 시장규모 (메모리, 파운드리, 기타) · 중국의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 서플라이 체인/유통 채널 분석 ※종류별/용도별 항목 및 상기 목차는 변경될 수 있습니다. 최신 내용은 당사로 샘플을 요청해서 확인하세요. |
